第395章 芯片制造弯道超车的希望（求月票）

第395章 芯片制造弯道超车的希望（求月票） (第2/2页)

过段时间，他准备开始主持晶圆项目的工作。
　　
　　去年就开始计划，公司陆陆续续社招了这方面的人才，再加上进公司工作一两年的硕士博士生，是时候真正开展工作了。
　　
　　现在沐阳还没有开始购买晶圆制造和芯片制造的技术，只是先把人员框架搭建起来。
　　
　　晶圆制造没有芯片制造那么复杂，只有芯片制造才会使用到光刻机和蚀刻设备，而晶圆制造并不需要，完全是两码事。
　　
　　从2007年后，12英寸的晶圆是主流标准尺寸，即直径约304.8毫米，指的是英制，不是米制一寸＝3.33厘米。
　　
　　在2013年，主流晶圆尺寸还是12英寸，二流就是8英寸，也有开始研发18英寸，不过，哪怕到了2022年，沐阳也没听说18英寸投产，主要还是晶圆的良品率低问题。
　　
　　当然，晶圆直径越大越好，也是越难做，对设备要求更高。
　　
　　我们常听说芯片工艺28nm，指ic内电路与电路之间的距离为28nm，肯定是越小肯定越好。
　　
　　8寸晶圆的极限基本就是90nm，而我们所了解的28nm，14nm，7nm芯片工艺只能在12英寸晶圆上面做，这也是为什么强调要生产12英寸晶圆。
　　
　　华国晶圆生产龙头代表是仲芯国际，2000年成立，在2009年时，一共有三家生产12英寸晶圆的工厂，只是说良品率比不上国际巨头，芯片制造工艺水平方面，在2010年年底时已经实现65nm量产，目前，还没实现28nm量产。
　　
　　沐阳了解到的国内晶圆和芯片工艺技术水平情况暂时是这样，这是他让公司相关部门去调查收集到的资料，他要先了解国内外情况。
　　
　　星海集团要搞晶圆生产，肯定是从12英寸晶圆开始，芯片工艺从28nm开始，否则就没有进入这个行业的必要。
　　
　　在后世，沐阳也了解过，芯片制造并不一定采用光刻机和蚀刻设备，比如电子束光刻技术，精度上完爆了euv光刻技术，只是在2022年那会刚突破，没法批量生产。
　　
　　沐阳也查了一下，的确有电子束光刻技术，同样没法实现批量生产问题，但可以实验室生产，用于量子计算机。
　　
　　如果他打算商业化的话，目前还是得走光刻机这条线，等时机一到，可以采用电子束光刻技术，直接弯道超车，还用什么狗屁光刻机。
　　
　　这个时机，也许就是7级阅读系统。
　　
　　但就算可以使用电子束光刻技术生产10nm线宽以下工艺芯片，但商用市场上还并不用这么尖端。
　　
　　沐阳的预期是，哪怕精度低一些也可以，只要能量产，成本能降下来就可以了，不用去搞什么狗屁光刻机了。
　　
　　现在光刻机这条线的技术专利估计都被申请通了，就算星海集团能做出光刻机之类设备又怎么样，如果不能绕过对方的专利覆盖，如果对方不授权，他是没法使用自己研发的光刻机生产。
　　
　　除非，星海集团能够绕开对方光刻机的专利覆盖，这条路，太难走了。
　　
　　指望对方授权专利，那不可能的，沐阳心里莫名其妙就有一股憋屈感。
　　
　　所以说，现在沐阳指望7级阅读系统了。
　　
　　离计划升级7级阅读系统，估计就能在年底实现。
　　
　　目前也不急，先搞出晶圆再说。